Электронная литография
Описание
Получение микро- и наноструктур методом электронной литографии с разрешением до нескольких нанометров. Возможна работа с негативным и позитивным электронным резистом
Примеры:
- Создание наноантенн
- Создание метаповерхностей
- Создание компонентов для микро- и наноэлектроники
- Создание дифракционных решеток
Подразделение:
Оборудование:
Требования к образцам:
- Линейные размеры образца (вместе с подложкой) не должны превышать 50 мм в каждом из направлений.
- Образцы в обязательном порядке должны быть сухими (предварительно высушенными).
- Исследуемая поверхность образца должна быть очищена от загрязнений (пыль, жир, масло) и защитных покрытий (лак, краска). В СЭМ исследуется только поверхность образца.
Порошкообразные объекты должны быть прочно закреплены на проводящей электрический ток (металлической) подложке.
Стоимость:
20000.00 руб./образец*
*Стоимость рассчитана на 1 стандартный образец и может быть изменена в зависимости от сложности задачи.